磁控濺射電源
Magnetron Sputtering
精新電源提供國內領先的多種規格的磁控濺射電源，包括中頻磁控濺射電源、非對稱脈沖磁控濺射電源等，可廣泛適用于各類離子鍍膜PVD工藝。
JX-MS-D直流磁控濺射
功率可達300KW，適用于太陽能電池制造，建筑玻璃等尖端直流等離子體鍍膜工藝
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JX-MS-P單級脈沖磁控濺射
中頻型號脈沖頻率高達40KHz，高頻型號脈沖頻率高達360KHz?？捎行p少復雜工藝打弧次數與能量
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JX-MS-B雙極脈沖磁控濺射
具有寬廣的輸出范圍和較好的適配性。是工業界大面積鍍膜以及雙磁控反應濺射工藝的理想選擇
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JX-MS-BP非對稱雙極磁控濺射
適用采用兩個不同尺寸，不同材料的靶材的工藝?？慑兲蓟?、氮化膜、氧化膜
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JX-MS-FM多波形磁控濺射電源
六種脈沖波形輸出，增加脈沖波形選擇靈活性。該電源在恒壓模式下可用作偏壓電源
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